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3年突破光刻机,15年破解所有芯片技术,我们真的行吗?

admin 2021-06-10 最新资讯 评论

3年突破光刻机,15年破解所有芯片技术,我们真的行吗?

  国产光刻机,要来了?

不把光刻机卖给中国,大概3年后中国就会自己掌握这个技术。

5月底,北大林毅夫教授在“2021年中国企业未来发展论坛”上表示:ASML的CEO彼得·维尼克担心

  从以往经验来看,中国的生产成本将会比国际上便宜,那时ASML可能将退出世界光刻机市场。

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  但荷兰ASML作为光刻机领域绝对霸主,它敢说中国3年内掌握光刻机,15年内掌握芯片所有技术,必然是经过专业推测。

中美竞争愈演愈烈背景下,我们离自主光刻机到底还有多远?

  芯片对21世纪全球科技竞赛有多重要,我们已讲过多次。

  比如足以改变人类未来的5G、AI、大数据、物联网等技术,没有高精度芯片作为基础,一切都无从谈起。

简单来说,芯片的重要性已超越石油,成为驱动世界经济增长的新动力。

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  在芯片产业链中,制造困难、工艺复杂的光刻机又是关键所在。它在全球科技界的地位,就像蒸汽机、发电机、计算机之于前三次工业革命。

有人说光刻机比原子弹难造,为啥?因为这玩意自己搞不来,必须集合全人类智慧。

  当今光刻机市场,荷兰ASML一家独大,能与之在中端光刻机较量的只有日本尼康、佳能,而7nm以下的高端光刻机完全被ASML垄断。

  ASML垄断的高端光刻机分为种,深紫外线光刻机(DUV光刻机),可用于生产7nm及以上制程芯片;极紫外线光刻机(EUV光刻机),可用于生产7nm以下制程芯片。

  这个EUV光刻机就是最强王者,它以紫外光为刀,把设计好的电路刻画到硅晶圆表面的光刻胶上,精密度要求极高,比如它造出的华为、苹果的5nm芯片每个都内含100多亿个晶体管。

单台售价高达1.2亿美元,配件多达10万个,全球供应商超5000家,集齐全球顶尖技术才制造出来。

作为芯片产业皇冠上的明珠,EUV光刻机极其珍贵。

  在整个EUV光刻机里,荷兰腔体和英国真空占了32%,美国光源占了27%,德国光学系统占了14%,日本的材料占了27%。

  所以中国工程院吴汉明院士说过,如果让一个国家或者一个地区做一个EUV光刻机是不现实的。

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  高端光刻机难造还有另一层原因,原子弹这样的国之重器我们可以不计成本去研发,但光刻机毕竟是市场化的产物,要考虑经济效益。

所以不完全是比原子弹难造,而是以前没到非造不可的那步。

5月12日,美国通过了一个《无尽前沿法案》,这个法案主要针对科学领域。

  目的是通过投资美国科创,创造高薪的美国制造业和高科技工作岗位,从而增强美国对中国及其他国家的竞争力。

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  具体内容包括5年内向美国国家科学基金会投资约1000亿美元,支持AI、量子计算、网络安全等十大未来新兴科技领域的研究。

对中国的影响不言而喻。

这标志着冷战后,美国重新认识到科技振兴与政府主导关键科技创新的紧迫性,

  光刻机如此重要的环节,美国自然不会放松。按美国出口新规,荷兰ASML禁止对华出口EUV光刻机,所以中芯国际先进制程至今被卡在14nm,未来大概率还是被限制。

  那怎么办,总不能永远被卡脖子吧,举国之力发展芯片等基础科技已成大势所趋。

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  10年来,我们疯狂发展新能源车产业,就是为了摆脱石油依赖。如今芯片代替石油,成为中国进口额最大的商品,这层依赖也需要被打破了。

我国光刻机目前在不断追赶,唯一量产光刻机的厂商是上海微电子,28nm工艺的国产光刻机预计今年底就能交货

,虽然和ASML的EUV光刻机相差甚远,但已经可以满足中端芯片需求。

  据此推算,我们离高端光刻机并非遥不可及。

  当然,不管ASML所说的3年搞定光刻机,15年实现所有芯片技术是不是捧杀、麻痹中国,总之我们唯有埋头苦干,打破垄断一条路可走。

3年突破光刻机,15年破解所有芯片技术,我们真的行吗?

  其实不只光刻机是这样,整个中国科技领域也是如此。

  过去10年,我们引以为傲的移动互联繁荣,其实是建立在别人基础上的。无论BAT、美团、抖音的应用,还是华米OV的手机,都需要欧美日韩的芯片、存储器、软件来支撑。

这不叫科技创新,只能称为模式创新,这点自觉还是要有的。

  再举个例子,为啥欧美有那么多假期,但我们还在996,BAT这样的大厂甚至更严重。说白了还是以勤奋换发展,而非科技创新驱动。

一切证明,依靠人口红利赚快钱的模式创新之路已然走到尽头,未来想要突破中等收入陷阱,化解内卷,那只能靠科技创新。

  科技创新不同于以往,芯片、AI、航空航天、生物医药,这些都需要长期的科研投入,也就是抛弃短期主义拥抱长期主义。

  唯有如此,国产芯片的未来,以及中国高科技的未来才有希望!

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